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Artikelaktionen

Becker, Martin

Becker, Dr. Martin

"Dünnschichttechnologie"

Die Forschungsschwerpunkte liegen auf der vergleichenden Herstellung funktionaler Dünnschichten mittels mannigfacher Beschichtungsmethoden. Dies umfasst sowohl rein physikalische Wirkungsverfahren wie Kathoden- und Ionenstrahlzerstäubung, als auch Verfahren, welche auf Basis von Gasphasenreaktionen ablaufen. Hierbei kommen plasma-assistierte Molekularstrahlepitaxie (PAMBE) sowie Atomlagenabscheidung (ALD), ein verändertes CVD-Verfahren, in welchem zyklisch die Ausgangsstoffe in die Reaktionskammer eingelassen werden, zum Einsatz.
Zur Analyse der Dünnschichteigenschaften (strukturell, optisch, elektrisch, thermisch) stehen eine Vielzahl von Charakterisierungsmethoden zur Verfügung, welche im Rahmen des Zentrums für Materialforschung bereitgestellt werden. Strukturerzeugung kann durch in der AG Klar verortete Lithografieverfahren (Fotolack, Maskierung, Belichtung usw.) erfolgen.
Untersuchte Materialklassen sind optoelektronische und photovoltaische Beschichtungen sowie Materialien der Energiespeicherung und -wandlung.

Becker, Martin

Kontakt

Dr. Martin Becker

I. Physikalisches Institut

Tel.: +49-641-99-33103
Fax: +49-641-99-33139

Physik-Institutsgebäude, Heinrich-Buff-Ring 16, Raum 227a

Becker, Martin, Abbildung 1

Anwendungen/Funktionen:

  • (Photo-)Elektrokatalyse
  • Intelligente Verglasungen (Smart Windows)
  • Nachhaltige Materialien
  • Oberflächentechnologien
  • Optische Materialien

Methoden:

  • Atomlagenabscheidung
  • Elektrischer Transport
  • Elektrochemische Messungen
  • Ionenstrahltechniken
  • Optische Spektroskopie
  • Physikalische Abscheidungen
  • Strukturanalytik

Materialklassen:

  • Dünnschichten
  • Festelektrolyte/gemischte Leiter
  • Halbleiter
  • Oxide
  • thermochrome/elektrochrome Schichten

Becker, Dr. Martin

"Thin-Film Technology"

The research focuses on the comparative production of functional thin films by means of manifold coating methods. This includes both purely physical methods such as (ion beam) sputtering, as well as processes which proceed on the basis of gas phase reactions. Here, plasma-assisted molecular beam epitaxy (PAMBE) and atomic layer deposition (ALD), a modified CVD process, in which cyclically the starting materials are introduced into the reaction chamber, are used.
For the analysis of the thin-film properties (structural, optical, electrical, thermal) a variety of characterization methods are available, which are provided within the framework of the Center for Materials Research. Structuring can be carried out by lithography processes that are located in the AG Klar.
The examined material classes are optoelectronic and photovoltaic coatings as well as materials of energy storage and conversion.

Becker, Martin

Contact

Dr. Martin Becker

Institute of Experimental Physics I

Phone: +49-641-99-33103
Fax: +49-641-99-33139

Physics building, Heinrich-Buff-Ring 16, Room 227a

Becker, Martin, Abbildung 1

Applications/Functionalities:

  • (Photo-)Electrocatalysis
  • Intelligent Glazing (Smart Windows)
  • Sustainable Materials
  • Surface Technologies
  • Optical Materials

Methods:

  • Atomic Layer Deposition
  • Electric Transport
  • Electrochemical Measurements
  • Ion-Beam Technologies
  • Optical Spectroscopy
  • Physical Deposition
  • Structural Analytics

Classes of Materials:

  • Thin Films
  • Solid Electrolytes / mixed Conductors
  • Semiconductors
  • Oxides
  • Thermochromic/electrochromic Films
abgelegt unter: