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Mai 2017

Bei der Untersuchung von unterstöchiometrischen und amorphen Dünnschichten wurden temperaturabhängige Transmissions-Elektronen-Mikroskop-Aufnahmen gemacht, um die Kristallisation auf mikrostruktureller Ebene zu beobachten und diese mit Röntgen-beugungsmessungen zu vergleichen. Die Abbildung zeigt In-situ-TEM-Bilder bei 75 °C einer vorher amorphen Dünnschicht aus Zirkoniumoxid mit einer formalen Zusammensetzung von 1:1 (Zr:O). Die Nukleation beginnt schon bei niedrigeren Temperaturen und geht von der Platin-Grenzschicht aus. Die beiden Körner (50 nm x 30 nm) dehnen sich aus und wachsen innerhalb weniger Minuten zusammen.Weitere Infos zum Dünnschichtmaterial „ZrOx“ (z. B. Beugungsdaten) finden sich unter: Phase formation and stability in TiOx and ZrOx thin films: Extremely sub-stoichiometric functional oxides for electrical and TCO applications, Z. Kristallogr. 2017; 232(1-3): 161-183, DOI: 10.1515/zkri-2016-1981, De Gruyter(Bild eingereicht von Ralph Henning.)

Mai 2017
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