Schörmann, Jörg
Dünnschichttechnologie
Die Forschungsschwerpunkte liegen im Bereich der Herstellung dünner Oxid- und Nitridschichten sowie Nanostrukturen aus Gruppe III-Nitriden. Die Anwendungen dieser Strukturen liegen in der Optoelektronik und Sensorik. Als Herstellungsverfahren werden hier die plasma-unterstützte Molekularstrahlepitaxie (PAMBE) und die Atomlagenabscheidung (ALD) eingesetzt. Zur Charakterisierung stehen verschiedene Methoden, wie hochauflösende Röntgenbeugung (XRD), Rasterkraftmikroskopie (AFM), Photolumineszenzspektroskopie (PL) etc. im Rahmen des Zentrums für Materialforschung zur Verfügung.
Kontakt
Dr. Jörg Schörmann
I. Physikalisches Institut
Tel.: +49-641-99-33122
Fax: +49-641-99-33139
Physik-Institutsgebäude, Heinrich-Buff-Ring 16, Raum 334
e-Mail | Webseite
Anwendungen/Funktionen:
- Halbleiterbauelemente
- Oberflächentechnologien
- Optische Materialien
Methoden:
- Atomlagenabscheidung
- Mikro- und Nanostrukturierung
- Optische Spektroskopie
- Physikalische Abscheidungen
- Röntgenbeugungsmethoden
- Strukturanalytik
Materialklassen:
- Dünnschichten
- Halbleiter
- Hybrid-Materialien
- Molekulare Materialien
- Nanomaterialien
- Oxide