Februar 2014Die Abbildung zeigt den Rezipienten (großes Bild) der neuen Sputterdepositionsanlage der AG Janek mit gezündetem Plasma (kleines Bild). Da die Anlage über einen direkten Gloveboxanschluss verfügt, lassen sich alle Proben ohne Atmosphärenkontakt unter Argon handhaben. Der Zuwachs innerhalb der Familie der Physical-vapor-deposition-(PVD)-Methoden ermöglicht es der AG Janek, große, homogene Dünnfilme durch den Einsatz von 4-Zoll-Targets abzuscheiden. (Die Anlage wurde beschafft mit finanzieller Unterstützung durch die BASF SE, Ludwigshafen. Das Bild wurde eingereicht von Jochen Reinacher.)https://www.uni-giessen.de/de/fbz/fb08/Inst/physchem/janek/gallerypom/GdB2014/BdM0214/viewhttps://www.uni-giessen.de/@@site-logo/logo.png
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Februar 2014
Die Abbildung zeigt den Rezipienten (großes Bild) der neuen Sputterdepositionsanlage der AG Janek mit gezündetem Plasma (kleines Bild). Da die Anlage über einen direkten Gloveboxanschluss verfügt, lassen sich alle Proben ohne Atmosphärenkontakt unter Argon handhaben. Der Zuwachs innerhalb der Familie der Physical-vapor-deposition-(PVD)-Methoden ermöglicht es der AG Janek, große, homogene Dünnfilme durch den Einsatz von 4-Zoll-Targets abzuscheiden. (Die Anlage wurde beschafft mit finanzieller Unterstützung durch die BASF SE, Ludwigshafen. Das Bild wurde eingereicht von Jochen Reinacher.)
